12月2日,据韩媒DealSite报道,三星电子正考虑对其DRAM产能进行重大调整,计划将支撑HBM3E内存供应的1a nm DRAM产能削减30%至40%。此举旨在通过制程转换,提升适用于通用内存产品的1b nm产能,从而实现利润的最大化。
目前,三星电子的HBM3和HBM3E内存均基于1a nm DRAM工艺生产,而即将推出的HBM4则将采用更先进的1c nm工艺。与此同时,1b nm工艺产能则完全用于生产通用内存产品。由于AI技术的快速发展对内存需求激增,以及HBM内存对产能的挤占效应,DDR5、LPDDR5x、GDDR7等通用内存产品价格近期经历了快速上涨。对于三星电子而言,1b nm产能的盈利能力已超越传统认知中受益于HBM高价格的1a nm产能。
尽管三星电子最终成为了英伟达的HBM3E供应商,但其供货规模相对有限。此外,三星电子在HBM3E上的平均售价较SK海力士低出三成,且预计从2026年起,HBM3E价格还将下降30%。面对这一市场形势,三星电子决定调整产能布局。
据消息人士透露,若三星电子将1a nm DRAM的30%至40%产能,以及1z nm等更为成熟工艺的产能转换为1b nm,则1b nm的投片量有望每月额外增加8万片晶圆。这一调整将有助于三星电子更好地应对市场需求变化,提升整体盈利能力。 |